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銅包裹碳化硅顆粒復合粉體的化學原位沉積制備與表征
1.一種(zhong)用(yong)太陽(yang)能硅(gui)片線(xian)切(qie)割后廢棄的(de)碳化硅(gui)/硅(gui)微粉(fen)來制作復合防(fang)靜電耐磨陶瓷的(de)方法,其特征(zheng)是:稱取(qu)一定量的(de)多(duo)種(zhong)丙烯酸酯類單(dan)體、硅(gui)片線(xian)切(qie)割后碳化硅(gui)微粉(fen)、硅(gui)片線(xian)切(qie)割。
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化(hua)學鍍(du)法碳(tan)化(hua)硅鈷沉(chen)積速率摘(zhai)要:采(cai)用化(hua)學鍍(du)法制備鈷包覆碳(tan)化(hua)硅復合(he)粉末,通過(guo)研究化(hua)學鍍(du)過(guo)程中鈷鹽(yan)濃度(du)(du)(du)(du)、還原劑(ji)濃度(du)(du)(du)(du)、絡合(he)劑(ji)濃度(du)(du)(du)(du)、緩沖劑(ji)濃度(du)(du)(du)(du)、溫度(du)(du)(du)(du)以及(ji)pH。
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