化學機械研磨后清洗技術簡介_百度文庫
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芯(xin)片(pian)制(zhi)造(zao)化學(xue)機(ji)械研磨廢水(shui)處理回用摘(zhai)要:化學(xue)機(ji)械研磨廢水(shui)產生(sheng)量(liang)大但總體污(wu)染物濃度不高,回用潛力巨大,其處理及回用技術是芯(xin)片(pian)制(zhi)造(zao)企業的研究。文(wen)章。
化學機械研磨廢水處理及回用技術的研究進展-《環境科學與技術》
“楔形”TEM樣品的機械研(yan)磨制備技術張啟華,趙燕麗,高(gao)強(qiang),李明,牛崇實(shi),簡(jian)維廷(中芯國際集成電路(lu)制造有限公司,上海201203)摘要:介紹了一種用(yong)機械。
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本發明(ming)提供了一(yi)種(zhong)化學機械研磨的(de)方法,包(bao)括下列步驟:提供半(ban)導(dao)體襯(chen)底(di),所述(shu)半(ban)導(dao)體襯(chen)底(di)上(shang)(shang)具有介質層(ceng)(ceng),所述(shu)介質層(ceng)(ceng)內包(bao)含通孔和/或(huo)(huo)溝槽;在介質層(ceng)(ceng)上(shang)(shang)及(ji)通孔和/或(huo)(huo)溝槽的(de)。
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英特爾半導體(ti)(大(da)連)有限(xian)公司招聘化學(xue)機(ji)械研(yan)磨液(ye)技(ji)(ji)術員,發(fa)布(bu)時間:2010年04月09日,職(zhi)位類別:全(quan)職(zhi),工作(zuo)地區:大(da)連,職(zhi)位描(miao)述:化學(xue)機(ji)械研(yan)磨液(ye)技(ji)(ji)術員工作(zuo)要(yao)求:?輔助工程師(shi)。
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銅互(hu)連和低K材料是半導體深亞微米工藝中涉及的兩(liang)個重要的技術(shu),而這兩(liang)種新技術(shu)的發(fa)展也給傳(chuan)統(tong)的化(hua)學機(ji)械研(yan)磨(CMP)工藝提出(chu)了(le)挑(tiao)戰。
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2012年1月18日(ri)-什么是研(yan)磨加工?發布(bu)時間:2013-01-18來源:機械專家(jia)網利用涂敷或(huo)壓(ya)嵌在(zai)研(yan)具上的磨料顆粒,通(tong)過研(yan)具與工件在(zai)一定壓(ya)力。
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先進銅化學機械研磨技術半導體工藝突破65nm節點-測試與測量-
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機械加工中哪些用到研磨工藝_百度知道
2013年7月26日-該項目開發的納米(mi)級高效(xiao)研(yan)磨加(jia)工技術在(zai)加(jia)工效(xiao)率、加(jia)工成本、加(jia)工質量和加(jia)工精度上具(ju)有明(ming)顯的優勢,具(ju)有很好的應用(yong)(yong)前景(jing)。項目組研(yan)制出的采用(yong)(yong)本項新技術的。
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